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              臺積電2納米制程或2025年量產(chǎn),有望領(lǐng)先三星、英特爾

              據(jù)臺灣《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》報(bào)道,臺積電2納米制程將于2025年量產(chǎn),外界看好進(jìn)度可望領(lǐng)先對手三星及英特爾。

              臺積電研究發(fā)展資深副總經(jīng)理米玉杰表示,將在2024年取得ASML下世代極紫外光微影設(shè)備(high-NA EUV),為客戶發(fā)展相關(guān)的基礎(chǔ)設(shè)施與構(gòu)架解決方案。臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)則表示,2024年取得設(shè)備后,初期主要用于與合作伙伴共同研究,尚不會量產(chǎn)。

              臺積電推出的采用納米片晶體管構(gòu)架的2納米制程技術(shù),在相同功耗下較3納米速度快10%至15%,在相同速度下功耗降低25%至30%,應(yīng)用包含行動運(yùn)算、高性能版本及完備的小芯片整合解決方案。

              來源:界面新聞



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